龙图光罩突破130nm光罩量产 国产替代加速

龙图光罩自2010年进入半导体掩模版领域，通过技术攻关将工艺节点从1微米提升至130nm，并于2023年底成功过会募资建设高端制造基地。公司掌握图形补偿、精准对位标记等核心技术，实现130nm制程光罩量产，精度达±20nm，产品已通过中芯集成、士兰微等国内主流晶圆厂商认证。国内光罩产业虽起步较晚，但龙图光罩等企业在国产替代政策推动下，正加速突破技术瓶颈。