【经营】龙图光罩展示PSM技术优势与量产能力
2026-01-29
龙图光罩在接受调研时详细解释了PSM相移掩模版相比普通BIM掩模版的技术优势,指出PSM通过相位差提升光刻分辨率和对比度,是支撑90nm及以下先进制程的关键。
公司在此领域已具备成熟的技术积累和量产能力,能够满足客户对高端节点的需求。
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