光罩国产化：五年变了天地

自2020年以来，中国大陆光罩厂在半导体产业链国产化进程中取得了显著进展。龙图光罩作为“三兄弟”之一，从0.13微米到14纳米的工艺能力提升显著。国内光罩厂数量增加，技术进步明显，部分厂商已具备7/14纳米光刻工艺用光罩生产能力。尽管仍依赖进口设备和基板材料，但国产化进程正在加速推进。