光刻机概念强势 恒坤新材涨幅靠前

光刻机概念12月15日早盘表现强势，恒坤新材涨幅靠前。

消息面上，据财联社报道，阿斯麦（ASML）首席执行官表示，公司为High—NA EUV所设计的光刻改进方案已得到验证，成像效果极佳，分辨率非常出色。公司正与客户合作完善该光刻系统的成熟度，预计High—NA EUV将在2027至2028年间实现大规模量产。

市场对于半导体的需求正显著增长。世界半导体贸易统计组织（WSTS）最新预测显示，2025年全球半导体营收有望同比增长22.5%至7720亿美元，2026年将再增长26.3%，达9750亿美元，与今年6月的预测相比已被明显调高。