【观点】韬定律或助中国芯片突破光刻限制

文章深入分析了“韬定律（τ—scaling）”作为半导体技术的新路径，它通过全栈时延优化、3D堆叠和架构革新，实现性能提升，而不依赖最先进的光刻机。这对于中芯国际等中国芯片公司来说，意味着可能绕过卡脖子限制，在成熟工艺节点上达到等效先进性能。文章预测，到2029年追平传统顶尖芯片，2031年实现超越，重塑产业格局，并强调封装和存储环节重要性提升。